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シリコンナノ加工と高品質真空利用技術に関する支援 - 広島大学ナノテクノロジープラットフォームプロジェクト

文部科学省の「ナノテクノロジー・ネットワーク」プロジェクトの一環として実施されている、広島大学ナノテクノロジーネットワークプロジェクトのホームページです。

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シリコンナノ加工と高品質真空利用技術に関する支援 - 広島大学ナノテクノロジープラットフォームプロジェクト | nanonet.hiroshima-u.ac.jp Reviews
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文部科学省の「ナノテクノロジー・ネットワーク」プロジェクトの一環として実施されている、広島大学ナノテクノロジーネットワークプロジェクトのホームページです。
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1 nanotechnology
2 文部科学省先端研究施設共用イノベーション創出事業
3 シリコンナノ加工と高品質真空利用技術に関する支援
4 Hiroshima university
5 lithography
6 nano
7 science
8 technology
9 nanonetwork project
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event,welcome guest,hiroshima univ,rnbs,シリコンナノ加工と高品質真空利用技術に関する支援,プロジェクト概要,上の画像をクリックすると、詳細を見られます,支援内容,1 ナノ構造加工 mems構造加工およびプロセス設計,2 薄膜形成 不純物導,3 ナノ構造パターン設計,4 シリコンナノドット関連,支援形態,a 共同研究,b 機器利用,c 技術代行,d 技術相談,e 技術補助,f 試行的利用,それぞれの支援形態の詳しい内容については 採択基準と支援形態,をご覧ください
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シリコンナノ加工と高品質真空利用技術に関する支援 - 広島大学ナノテクノロジープラットフォームプロジェクト | nanonet.hiroshima-u.ac.jp Reviews

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支援実績 - 広島大学ナノテクノロジープラットフォームプロジェクト

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支援を希望される方へ - 広島大学ナノテクノロジープラットフォームプロジェクト

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機器一覧 - 広島大学ナノテクノロジープラットフォームプロジェクト

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Yamaguchi Univ. Nanonet. Siウエハの接合(35mmと10mn角), 650 中1000kgfまで加圧可能, H. 5keV-150keV, B, As, P, Si, F, Ar, In, Sb, N, He 等注入可能. 超高真空仕様,Al以外にTi, TiNのスパッタが可能, DCマグネトロン Ar, N. DCマグネトロン Ar, H. 各種材料スパッタ用 3インチターゲット交換により広範な材料に対応 スパッタガス Ar O. 分解能 z:0.01nm, X、Y 0.1nm, 視野最小5nm角、最大 20μm角、クリーンルーム内に設置. 分光エリプソメーター(J.A. Woollam Japan,M2000-D). 垂直範囲 10nm 130μm、垂直解像度 最高0.1nm. 他、加速電圧 最大2.40 MV、ビーム電流 3μA-50μA. X線源 Mg Ka, 電子結合エネルギー走査範囲 1150 -10 eV. Powered by XOOPS Cube 2.1 2001- XOOPS Cube Project. Theme design by BCOOL.

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イベント - 広島大学ナノテクノロジープラットフォームプロジェクト

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Yamaguchi Univ. Nanonet. 期 間 2016年8月1日(月) 6日(土 6日間. 場 所 広島大学ナノデバイス バイオ融合科学研究所. Http:/ www.rnbs.hiroshima-u.ac.jp/. お申し込み先 Web: http:/ nanonet.mext.go.jp/gakusei/h28/. お問合せ yokoyama-shin@hiroshima-u.ac.jp. Web: http:/ www.rnbs.hiroshima-u.ac.jp/ 研究所. Powered by XOOPS Cube 2.1 2001- XOOPS Cube Project. Theme design by BCOOL.

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シリコンナノ加工と高品質真空利用技術に関する支援 - 広島大学ナノテクノロジープラットフォームプロジェクト

Yamaguchi Univ. Nanonet. 文部科学省のナノテクノロジープラットフォームプロジェクトの一環として、広島大学 ナノデバイス バイオ融合科学研究所 先端物質科学研究科 では超微細構造形成 のための支援を行います。 これまでの支援成果例として、プリンタ用レーザヘッドの低コスト製造法 エピフィルムボンディング法 の実用化 2007年内閣総理大臣表彰 ものづくり大賞 優秀賞受賞 やシランプラズマ中のダスト微粒子抑制法 2006年日本エアロゾル学会論文賞受賞 などがあり、 日本のナノテクノロジーの発展に少なからず貢献できたものと自負しております。 期 間 2015年8月3日(月) 8日(土 6日間. 場 所 広島大学ナノデバイス バイオ融合科学研究所. Http:/ www.rnbs.hiroshima-u.ac.jp/. お申し込み先 Web: http:/ nanonet.mext.go.jp/gakusei/h27/. お問合せ yokoyama-shin@hiroshima-u.ac.jp. Theme design by BCOOL.

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